dc.contributor.author
Riemann, Andreas
dc.date.accessioned
2018-06-07T15:08:48Z
dc.date.available
2002-11-18T00:00:00.649Z
dc.identifier.uri
https://refubium.fu-berlin.de/handle/fub188/624
dc.identifier.uri
http://dx.doi.org/10.17169/refubium-4826
dc.description
Titlepage
1
Abstract / Zusammenfassung / Contents
3
Introduction
11
Experimental
1.1
Scanning Tunneling Microscopy
13
1.2
Low-Energy Electron Diffraction
15
1.3
UHV Systems and Sample Preparation
20
1.3.1
SPA-LEED System
20
1.3.2
LT-STM System
21
1.3.3
Sample Preparation
21
1.3.4
Calibration
22
1.3.5
Image Editing
22
2
Theoretical Basics
23
2.1
Growth Modes
23
2.2
Smoluchowski Effect
26
3
Substrate Surface Geometries and Deposits
29
3.1
Cu(211) and Ag(211)
29
3.2
Cu(311)
30
3.3
Cu(221)
31
3.4
Cu(532)
31
3.5
Facet Geometry: Cu(531)
32
3.6
Deposits
33
4
Layer Growth
37
4.1
NaCl on Cu(311)
38
4.2
KCl on Cu(311)
44
4.3
NaCl on Cu(221)
48
4.4
Summary for Layer Growth
54
5
One-dimensional Faceting
55
5.1
KCl on Ag(211)
56
6
Two-dimensional Faceting
65
6.1
NaCl on Cu(532)
65
6.1.1
Cu(532) Surface
66
6.1.2
NaCl Deposition
67
6.2
Chemical Selectivity
85
6.2.1
CO Adsorption
85
6.2.2
Ag Deposition onto Facet Structure
87
6.3
Summary for Two-dimensional Faceting
95
Summary and Outlook
97
A
Diffraction Patterns and Bragg Point Energies
99
Bibliography
105
Resume
115
Publications
117
Acknowledgment
119
dc.description.abstract
In this work the growth behavior of ionic insulators on stepped and kinked
metal surfaces was investigated. The substrate materials are the metals copper
and silver while the deposits are the alkali halides sodium chloride and
potassium chloride. As an inherent feature, stepped and and kinked metal
surfaces are characterized by a charge modulation due to the Smoluchowski
smoothing effect. A geometrical matching between the ionic charges of the
adlayer and the charge modulation of the template leads to an enhanced
interfacial stability. This energetic preference was exploited (i) to grow
smooth films on the original substrate, (ii) to create a one-dimensional
"hill-and-valley" facet structure, and (iii) to fabricate a two-dimensional
pyramidal facet structure. On stepped surfaces, alkali halide layers adopt the
preferred (100)-termination with the polar <110> in-plane directions oriented
parallel and perpendicular to the intrinsic steps of the underlying template.
Consequently, the growth mode is determined by the ratio between the spacing
of the intrinsic steps of the metal template and the lateral distance of
equivalent ions in the adlayer.
If this ratio is close to one (or two), smooth layer growth occurs as
described for the systems NaCl/Cu(311), KCl/Cu(311), and NaCl/Cu(221) . These
systems show that for low coverages (~1 ML), the electrostatic interactions
between adlayer and substrate are strong enough to overcome epitaxial strain
up to 6% in the polar in-plane direction perpendicular to the steps. For
higher coverages (>3 ML) the adlayer induces the formation of defect steps in
the metal template to compensate the strain.
If the substrate surface geometry does not favor smooth layer growth while
there is a preferred substrate geometry available close to the macroscopic
surface orientation, a one-dimensional faceting process can occur. This was
shown for the system KCl/Ag(211). In this case, the (311) facet orientation
which fulfills the criterion for layer growth, is tilted by only 10° relative
to the macroscopic surface. For deposition temperatures of room temperature or
higher sufficient substrate adatom mobility allows for the required mass
transport to achieve facets with a KCl overlayer in the desired (311)
orientation and bare Ag(111) facets to preserve the overall macroscopic
surface orientation.
The quasi one-dimensional faceting process found for stepped surfaces was
extended to kinked surfaces to realize a two-dimensional facet structure. In
detail, NaCl growth on the kinked surface Cu(532) was studied. For this
system, a pyramidal facet structure is obtained which consists of three facet
types: bare Cu(111), NaCl-covered (311), and NaCl-covered (531) facets. To
match the charge modulation of the (531) facet with the ionic charges of the
NaCl adlayer, regular defect steps are incorporated into this facet. The
chemical selectivity of this facet structure was verified by adsorbing CO
molecules on the Cu(111) facets only. No CO adsorption was observed on the
chemically inert NaCl-covered facets. Furthermore, by the deposition of a
metal (Ag) onto the initial facet structure a new surfactant growth mode was
found, where Ag diffuses into the interface between the NaCl adlayer and the
Cu template. Hence, the NaCl layer stabilizes the growth of ultrathin Ag
layers exhibiting an open structure.
de
dc.description.abstract
In dieser Arbeit wurde das Wachstumsverhalten von ionischen Isolatoren auf
gestuften und gekinkten Metalloberflächen untersucht. Die Substratmaterialien
sind die Metalle Kupfer und Silber, während als Adsorbate die Alkalihalogenide
Natriumchlorid und Kaliumchlorid verwendet werden. Eine charakteristische
Eigenschaft von gestuften und gekinkten Metalloberflächen besteht in einer
Ladungsmodulation aufgrund des Smoluchowski-Effekts. Bei geeigneter
geometrischer Anpassung zwischen den ionischen Ladungen der Ad-Lage und der
Ladungsmodulation des Substrats kommt es zu einer erhöhten
Grenzflächenstabilität. Diese energetische Stabilität wurde genutzt (i) um
glatte Filme auf dem Substrat zu wachsen, (ii) um eindimensionale "Auf-und-
Ab"-Facettenstrukturen zu erzeugen und (iii) um zweidimensionale
Facettenanordnungen (d.h. Pyramidenstrukturen) herzustellen. Auf gestuften
Oberflächen wachsen Alkalihalogenid-Filme in bevorzugter (100)-Orientierung
auf, wobei die polaren <110>-Richtungen in der Filmebene parallel und
senkrecht zu den intrinsischen Substratstufen verlaufen. Wesentlich für den
Wachstumsmodus ist damit das Verhältnis zwischen dem Abstand der intrinsischen
Stufen des Substrats und dem Abstand gleicher Ionen des Films.
Wenn dieses Verhältnis ungefäahr eins (oder zwei) ist, findet Lagenwachstum
statt, wie es für die SystemeNaCl/Cu(311), KCl/Cu(311) und NaCl/Cu(221)
gefunden wurde. Diese Systeme zeigen, dass für geringe Bedeckungen (~1 ML) die
elektrostatische Wechselwirkung zwischen Adsorbat und Substrat stark genug
ist, um epitaktische Verzerrungen von bis zu 6% zu stabilisieren. Bei höheren
Bedeckungen (>3 ML) entstehen Adsorbat-induzierte Defektstufen in der
Metalloberfläche, um die Verzerrung abzubauen.
Wenn die Oberflächengeometrie des Substrats Lagenwachstum nicht zulässt, es
aber eine bevorzugte Substratgeometrie in der Nähe der makroskopischen
Oberflächenorientierung gibt, kann es zu einem eindimensionalen
Facettierungsprozess kommen.Dies wurde anhand des Systems KCl/Ag(211) gezeigt.
Bei diesem System ist die (311)-Facettenorientierung, die für Lagenwachstum
geeignet ist, nur um 10° relativ zur makroskopischen Oberfläche verkippt. Für
die Deposition bei Raumtemperatur oder darüber ist eine ausreichende Mobilität
der Substrat-Adatome gegeben, um die Umordnung zu einer Facettenstruktur aus
KCl-bedeckten Ag(311)-Facetten und unbedeckten Ag(111)-Facetten zu
ermöglichen.
Der quasi ein-dimensionale Facettierungsprozess bei gestuften Oberflächen
wurde auf gekinkte Oberflächen erweitert, um eine zwei-dimensionale
Facettenstruktur zu erzeugen. Konkret wurde das Wachstum von NaCl auf der
gekinkten Oberfläche Cu(532) untersucht. Die erhaltene pyramidale
Facettenstruktur besteht aus drei Facettenarten: reine Cu(111)-, NaCl-bedeckte
(311)- und NaCl-bedeckte (531)-Facetten. Zur Anpassung der Ladungsmodulation
der (531)-Facetten an die ionischen Ladungen der NaCl-Lage sind regelmäßige
Defektstufen in diese Facette eingebaut.Die chemische Selektivität dieser
Facettenstruktur wurde verifiziert mittels der Adsorption von CO
ausschließlich auf den Cu(111)-Facetten. Keine CO Adsorption wurde hingegen
auf den chemisch passivierten NaCl-bedeckten Facetten beobachtet. Weiterhin
wurde durch die nachfolgende Dekoration der Facettenstruktur mit einem Metall
(Ag) ein neuer Surfactant-Wachstumsmodus gefunden. In diesem Fall diffundiert
Ag in die Grenzfläche zwischen NaCl-Adlage und Cu-Substrat. Die NaCl-Lage
stabilisiert das Wachstum von ultradünnen Ag-Filmen, die durch eine offene
Oberflächenorientierung charakterisiert sind.
de
dc.rights.uri
http://www.fu-berlin.de/sites/refubium/rechtliches/Nutzungsbedingungen
dc.subject
vicinal metal surfaces
dc.subject
ionic insulators
dc.subject.ddc
500 Naturwissenschaften und Mathematik::530 Physik::530 Physik
dc.title
Ionic Insulators on Vicinal Metal Surfaces
dc.contributor.firstReferee
Professor Dr. Karl Heinz Rieder
dc.contributor.furtherReferee
Privat-Dozent Dr. Reinhold Koch
dc.date.accepted
2002-11-13
dc.date.embargoEnd
2002-11-19
dc.identifier.urn
urn:nbn:de:kobv:188-2002002450
dc.title.subtitle
From Layer Growth to the Fabrication of Pyramidal Facet Structures
dc.title.translated
Ionische Isolatoren auf vicinalen Metalloberflächen
de
dc.title.translatedsubtitle
Vom Lagenwachstum zur Erzeugung von pyramidalen Facettenstrukturen
de
refubium.affiliation
Physik
de
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FUDISS_thesis_000000000587
refubium.mycore.transfer
http://www.diss.fu-berlin.de/2002/245/
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