dc.contributor.author
Kurtz, Olaf
dc.date.accessioned
2018-06-07T16:10:03Z
dc.date.available
1999-02-25T00:00:00.649Z
dc.identifier.uri
https://refubium.fu-berlin.de/handle/fub188/2133
dc.identifier.uri
http://dx.doi.org/10.17169/refubium-6335
dc.description
Titelblatt, Danksagung, Inhaltsverzeichnis
1 Einleitung
2 Die Untersuchungsmethoden 2.1 Die Rastertunnelmikroskopie (STM) 2.1.1
Grundsätzliches zur STM - Abbildung
2.1.2 Theoretische Beschreibung des Abbildungsverhaltens des STM und ihre
Problematik 2.2 Die Photoelektronenspektroskopie 2.2.1 Die
Röntgenphotoelektonenspektroskopie (XPS, ESCA)
2.2.2 Die Ultraviolettphotoelektronenspektroskopie (UPS) 2.3 Die
Augerelektronenspektroskopie (AES)
2.4 Beugung niederenergetischer Elektronen (LEED)
2.5 Die Thermodesorptionsspektroskopie (TDS) 3 Theoretische Grundlagen zur
Keimbildung und zum Filmwachstum 3.1 Keimbildung und Wachstum dünner Filme
3.1.1 Makroskopisches Modell
3.1.2 Mikroskopisches Modell 3.1.2.1 Atomare Prozesse beim Filmwachstum
3.1.2.1.1 Die Oberflächendiffusion
3.1.2.1.2 Die homogene Keimbildung
3.1.2.1.3 Die heterogene Keimbildung 3.1.3 Übergang vom 2D - zum 3D - Wachstum
3.1.4 Akkommodation der Gitterfehlanpassung 4 Experimentelles 4.1 Die
Ultrahochvakuumsysteme 4.1.1 Die Leybold Heraeus - Kammer 4.1.1.1
Datenaufnahme und Auswertung
4.1.1.2 Die Graphit-Probe
4.1.1.3 Die Rhodiumquelle 4.1.2 Die VG - Kammer 4.1.2.1 Das
Rastertunnelmikroskop (STM)
4.1.2.2 Die Probenhalterung für das HOPG und den Re(0001) - Kristall
4.1.2.3 Die Probenpräparation
4.1.2.4 Die Rhodium - Quelle 5 Das Rhodiumwachstum auf einem HOPG - Kristall
5.1 Der Graphit - Kristall
5.2 Das Rh/Graphit - System 5.2.1 Die STM - Ergebnisse
5.2.2 Die Ergebnisse der Röntgenphotoemissionsspektroskopie
5.2.3 Die Ergebnisse der Ultraviolettphotoelektronenspektroskopie
5.2.4 Zusammenfassung 5.3 Diskussion 5.3.1 Wachstum und Struktur 5.3.1.1
Graphit als Trägermaterial
5.3.1.2 Keimbildung und 3D Wachstum bei Raumtemperatur 5.3.2 Elektronische
Struktur des Rh/Graphit Systems 5.3.2.1 Einfluß des Substrats auf die
Bindungsenergie(BE) Verschiebung der Rumpfelektronen im XPS
5.3.2.2 Einfluß der Clustergröße auf die elektronische Struktur des Rhodiums
5.3.2.3 Interpretation der Valenzbandspektren 5.3.3 Der Metall Isolator -
Übergang
5.3.4 Zusammenfassung 6 Das Wachstum von Rhodium auf einer Re(0001) -
Oberfläche 6.1 Schwefel- und Sauerstoffstrukturen auf der Re(0001) Oberfläche
in der Phase der Probenpräparation 6.1.1 Schwefelstrukturen auf der Re(0001) -
Oberfläche
6.1.2 Sauerstoffstrukturen auf der Re(0001) - Oberfläche 6.2 Die Re(0001)
Oberfläche
6.3 Die Ergebnisse zum Rh/Re(0001) System 6.3.1 Die STM Ergebnisse
6.3.2 Die XPS - Untersuchungen
6.3.3 Die AES - Resultate
6.3.4 Ergebnisse der LEED Messungen
6.3.5 Die Metall -Thermodesorptionsexperimente
6.3.6 Die CO Thermodesorption
6.3.7 Zusammenfassung 6.4 Diskussion 6.4.1 Das Wachstum von Rhodium auf
Re(0001) bei Raumtemperatur 6.4.1.1 Keimbildung und Wachstum im
Submonolagenbereich in den STM Aufnahmen
6.4.1.2 Die Stärke der Rh/Re Wechselwirkung
6.4.1.3 Das CO Desorptionsverhalten im Kontext der bimetallischen
Wechselwirkung und der Rh - Filmmorphologie 6.4.2 Das Wachstum von Rhodium bei
erhöhten Temperaturen und Legierungsbildung 6.4.2.1 Das Rh/Re Phasendiagramm
und die Mischbarkeit beider Metalle
6.4.2.2 Hinweise auf Legierungsbildung im Rh/Re - System
6.4.2.3 Triebkraft der Legierungsbildung 6.5 Zusammenfassung 7
Schlußbetrachtung und Ausblick
8 Summary
9 Literaturverzeichnis
dc.description.abstract
Es wurden die beiden Systeme Rhodium auf Graphit(0001) und Rhodium auf
Rhenium(0001) vorgestellt, die sich in bezug auf die Wechselwirkungen der
Einzelkomponenten deutlich voneinander auf Graphit(0001) und Rhodium auf
Rhenium(0001) vorgestellt, die sich in bezug auf die Wechselwirkungen der
Einzelkomponenten deutlich voneinander unterscheiden. Das Bindeglied zwischen
beiden bildet das Rhodium, das auf dem Graphit weitgehend unbeeinflußt vom
Trägermaterial dreidimensionale kugelförmige Agglomerate bildet (VW
Mechanismus), während es auf Rhenium zu einer starken Wechselwirkung mit dem
Substrat kommt (pseudo FM Mechanismus).
Rhodium zeigt keinerlei Tendenzen, die Graphit - Oberfläche zu benetzen, und
wächst in dichtgepackten fraktalen Inseln auf. Es läßt sich an ihm sehr gut
der Übergang von dem nichtmetallischen zum metallischen Zustand des Deponats
beobachten. Aus diesem Grunde wurden die Untersuchungsmethoden STM, um die
Morphologie des wachsenden Materials zu klären, und XPS und UPS, um die
Änderung der elektronischen Struktur zu verfolgen, eingesetzt. Dieser
komplementäre Ansatz führt zu einem relativ geschlossenen Bild und verbindet
physikalische mit chemischen Gesichtspunkten. Besonders Untersuchungen der
Struktursensitivität chemischer Reaktionen an den Rhodiumpartikeln wären eine
wichtige und notwendige Fortsetzung der hier durchgeführten Experimente, um
die Rh Partikel im Hinblick auf ihre katalytische Aktivität zu
charakterisieren. Hierzu könnten besonders UPS - und TDS Untersuchungen der
Reaktanden nützlich sein. Die Produktausbeute und der sich mit Inselgröße und
Reaktionsbedingungen ändernde Wirkungsgrad des Rh - Katalysators ließe sich
unter Verwendung eines Gaschromatographen bestimmen. Die Präparation könnte in
einer Hochdruckzelle stattfinden und so die Drucklücke zwischen UHV Experiment
und den Realbedingungen industrieller Reaktionen schließen oder verkleinern
helfen.
Eine weitere interessante Beobachtung ist die substratinduzierte, durch dessen
Topographie bedingte und dadurch beeinflußbare Struktur des Rhodiums. Die hohe
Mobilität des Rhodiums führt schon bei Raumtemperatur zu einem Einfang durch
die Stufenkanten, was zu der Bildung von langen Rhodiumketten führt. Dies
könnte dazu genutzt werden, um dünne leitende metallische Fäden zu erzeugen.
In diesem Zusammenhang müßten Leitfähigkeitsmessungen durchgeführt und ein
entsprechendes Design der Oberfläche vorgenommen werden.
Auch die magnetischen Eigenschaften des entstehenden Festkörpers sind von
Bedeutung. Photoemissionsexperimente würden zu der Klärung mit beitragen.
Dieser Aspekt ist bezüglich des bimetallischen Systems noch interessanter.
Besonders wenn die Bildung der Legierung mitberücksichtigt wird, und die
daraus resultierenden magnetischen, elektronischen und strukturellen
Änderungen des Films. Um die Ausbildung der Legierung eingehender zu studieren
müßten die Änderungen der Austrittsarbeiten mit der Rhodiumdeposition
durchgeführt werden. Mit dem STM wäre wahrscheinlich eine weitere Klärung der
Legierungsschichten nicht möglich. Die Austrittsarbeiten der beiden
Materialien sind sehr ähnlich, so daß der chemische Kontrast in den
Rastertunnelbildern sehr gering ist. Die Möglichkeit die beiden Atomsorten im
STM Bild zu unterscheiden ist damit stark eingeschränkt. Allerdings würden
rastertunnelmikroskopische Untersuchungen der Hochtemperaturfilme wichtige
Informationen über die Filmmorphologie und das Diffusionsverhalten liefern.
Außerdem könnte die Temperaturabhängigkeit der Inselform und damit die Kinetik
der Keimbildung und des Wachstumsmechanismus eingehender studiert werden.
Wichtig wären auch weitere Metalldesorptionsexperimente, in denen die Heizrate
variiert werden sollte, um eine genauere Bestimmung der
Desorptionstemperaturen und des Frequenzfaktors zu ermöglichen. Darüber hinaus
können wahrscheinlich weitere Desorptionszustände für die verschiedenen Rh
Schichten aufgelöst werden. Allerdings erschwert die hohe
Desorptionstemperatur des Rhodiums die Aufnahme der Spektren ganz erheblich.
Um weitere Informationen über die Wechselwirkung beider Metalle zu erhalten
könnten UPS - Experimente durchgeführt werden. Die Entwicklung der
Valenzbänder und ihre gegenseitige Beeinflussung ständen dabei im Mittelpunkt.
Da die durchgeführten XPS Untersuchungen zu unempfindlich waren, müßten sie z.
B. an einem Synchrotron wiederholt werden, um eine bessere Auflösung zu
ermöglichen und die eventuell vorhandenen Verschiebungen der Bindungsenergien
nachzuweisen.
Zur Beurteilung seiner katalytischen Aktivität sollten weitere
Gasadsorptionsexperimente als Funktion der Rhodiumbedeckung an dem
bimetallischen System durchgeführt werden. Besonders interessant sollten diese
Untersuchungen bezüglich der Dissoziation des Kohlenmonoxids auf der
rhodiumbedeckten Rheniumoberfläche. HREELS - und IR Experimente könnten die
Frage klären, ob die Dissoziation durch die spezifischen Eigenschaften des
Bimetallsystems ist, oder ob der Vorgang innerhalb unserer TDS Experimente
rein thermisch induziert ist. In diesem Zusammenhang wäre auch die Variation
der CO - Adsorptionstemperatur sinnvoll.
de
dc.description.abstract
The Rh/Graphite system was studied by means of STM, UPS and XPS, after metal
deposition on the basal plane of graphite in UHV at room temperature. The STM
images show clearly that Rh grows as three dimensional particles on the
graphite substrate even at coverages far below a monolayer (Volmer Weber
growth mode). Under the experimental conditions employed in this study no
chemical interaction between adsorbate and substrate, e.g., the formation of
carbides or intercalates, could be found. Rhodium atoms exhibit very high
mobility, resulting in a high rate of defect nucleation and step decoration.
Beginning at a coverage of approximately 1.65 monolayers, fractal growth of Rh
islands is observed. The islands are partially built up by spherical Rh
segments. The spherical shape of these segments is consistent with the
observation that Rh had no tendency of wetting the graphite surface and with
its high cohesive energy.
Information on the electronic structure of the Rh clusters was obtained by
analysis of the shape and the binding energy Eb of the photoelectron lines as
a function of the coverage of the metal. We were able to demonstrate that the
binding energy of the core level 3d electrons increases by 0.3± 0.1 eV. This
increase is accompanied by a FWHM increase of about 1.5 eV for the smallest
amount of the deposited metal (up to 0.2 ML). We interpret the core level
shift as a consequence of rehybridisation effects (initial state effect) on
one hand and the change in core hole screening as a function of cluster
dimension on the other (final state effect). In UPS we detected three
different Rh signals at 0.75, 3.2 and 4.4 eV below the Fermi level. By
comparison with UV photoelectron spectra of the Rh(111), Rh(100) and Rh(110)
single crystal surfaces it was concluded that the islands and the round
segments are predominantly close packed. The valence electron signals can be
identified with the Rh d band (0.75 eV), an s-d hybrid band (4.4 eV). The
emission at 3.2 eV was interpreted as rhodium atoms with essentially the
electronic structure of isolated atoms and not of bulk Rh. In the coverage
region of 0.2 0.4 monolayers the FWHM of the d band is stagnating before
increasing with increasing cluster size. In the same coverage region, the d
band intensity begins to grow, accompanied with the development of the Fermi-
edge. From these data it was calculated that the insulator/metal transition
occurs at cluster sizes of 70-100 Rh atoms.
The investigation of the Rh/Re(0001) system with STM, AES, LEED, XPS and TDS
shows that rhodium grows for the first two monolayers in a layer by layer
fashion (pseudo Frank van-der-Merwe growth mode), followed by a transition to
a three dimensional (or Stranski-Krastanov) growth mode. In LEED experiments,
no ordered layer could be proved neither at T = 300 K nor at T = 900 K. At low
coverages, the homogenous nucleation process dominates, in line with a the low
mobility of the metal atoms resulting from a strong metal surface interaction.
As an indicator for the strength of the adsorbate/substrate interaction the
desorption behaviour of CO was investigated as a function of rhodium cluster
size. The TPD spectra for the highest Rh coverage were consistent with those
of the CO/Rh(111) system but with a reduced desorption temperature of 113 K or
32.5 kJ/mol (Redhead analysis). The strong interaction with the substrate and
the charge transfer from rhodium to the surface weakens the 2p*-backbonding
and therefore also the CO-Rh bond. The picture of closed-packed rhodium
islands is supported by the fact that the recombination signal decreased with
increasing rhodium concentration on the surface. This is reminiscent of the
CO-desorption behaviour on the Rh(111) and Rh(100) surfaces. As a consequence
of the packing density the misfit should become greater, which could be the
reason for the beginning Stranski Krastanov growth mode after completion of
the first two layers. At T > 900 K, volume alloying starts by thermally
induced rhodium diffusion into the rhenium bulk. This was proven by several
temper experiments in a temperature region far below the desorption
temperature of rhodium (1849 K for the monolayer and 1822 K for the
multilayer).
en
dc.rights.uri
http://www.fu-berlin.de/sites/refubium/rechtliches/Nutzungsbedingungen
dc.subject
metal/isolator transition
dc.subject.ddc
500 Naturwissenschaften und Mathematik::540 Chemie::540 Chemie und zugeordnete Wissenschaften
dc.title
Das Wachstum von Rhodium auf einer Graphit(0001)- und einer
Rhenium(0001)-Oberfläche
dc.contributor.firstReferee
Prof. Dr. Klaus Christmann
dc.contributor.furtherReferee
Prof. Dr. Gerhard Ertl
dc.date.accepted
1999-02-15
dc.date.embargoEnd
1999-03-03
dc.identifier.urn
urn:nbn:de:kobv:188-1999000140
dc.title.translated
The Growth of Rhodium on a Graphite(0001)- and a Rhenium(0001)-Surface
en
refubium.affiliation
Biologie, Chemie, Pharmazie
de
refubium.mycore.fudocsId
FUDISS_thesis_000000000178
refubium.mycore.transfer
http://www.diss.fu-berlin.de/1999/14/
refubium.mycore.derivateId
FUDISS_derivate_000000000178
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open access