dc.contributor.author
Kirchner, Viola
dc.date.accessioned
2018-06-07T23:31:01Z
dc.date.available
2002-01-14T00:00:00.649Z
dc.identifier.uri
https://refubium.fu-berlin.de/handle/fub188/10585
dc.identifier.uri
http://dx.doi.org/10.17169/refubium-14783
dc.description
Inhaltsverzeichnis der Dissertation
* * *
## Titel und Inhalt
* * *
1 Einleitung 1
2 Die Idee 9
3 Experimentelles 23
3.1 Aufbau 25
3.2 Bipotentiostatische Regelung 26
3.3 Herstellung der Werkzeuge 29
3.4 Probenpräparation 32
3.5 Experimentelle Durchführung 34
4 Mikrostrukturierung von Kupfer 37
4.1 Experimentelle Bedingungen 37
4.2 Dreidimensional geätzte Mikrostrukturen 39
4.3 Lokale Kupferabscheidung 45
5 Mikrostrukturierung von Edelstahl 51
5.1 Elektrochemische Besonderheiten 52
5.1.1 Passivität und Passivschichten 53
5.1.2 Bedingungen für die Mikrostrukturierung 58
5.2 Mikrostrukturen 67
6 Mikrostrukturierung von Silizium 79
6.1 Besonderheiten der Elektrochemie von Silizium 80
6.1.1 Phasengrenze an Halbleiterelektroden 80
6.1.2 Anodisches Ätzen von Silizium 84
6.1.3 Bedingung für die elektrochemische Mikrostrukturierung 89
6.2 Mikrostrukturen 91
7 Quantitative Untersuchungen 97
7.1 Eindimensionale Simulation 98
7.2 Zweidimensionale Simulation 104
7.3 Experimente zur Ortsauflösung 108
7.4 Wie gut kann die Methode werden? 118
8 Vergleich mit anderen Methoden 121
9 Zusammenfassung 127
Literaturverzeichnis 131
dc.description.abstract
Kurzfassung der Dissertation
## Kurzfassung
Die Herstellung von Mikrostrukturen ist eine der heutigen
Schlüsseltechnologien. Mikroelemente kommen in vielen Bereichen zum Einsatz -
von elektronischen Bauteilen bis hin zu mikroskopisch kleinen Maschinen. In
dieser Arbeit soll ein neues elektrochemisches Verfahren vorgestellt werden,
mit dem sich Materialien im Mikrometerbereich dreidimensional bearbeiten
lassen. Dazu werden elektrochemische Reaktionen durch Anwendung von
Nanosekunden-kurzen Spannungspulsen räumlich scharf begrenzt.
Die Methode nutzt aus, daß die Ladezeit der Doppelschichtkapazitäten auf den
Elektrodenoberflächen von der Entfernung zwischen zwei Elektroden im
Elektrolyten abhängt. Während Spannungspulsen von wenigen Nanosekunden Dauer
zwischen den Elektroden werden nur Bereiche merklich aufgeladen, die nicht
weiter als wenige Mikrometer von der Gegenelektrode entfernt liegen. Da die
Raten elektrochemischer Reaktionen exponentiell vom Spannungsabfall in der
Doppelschicht abhängen, sind die Reaktionen scharf auf diese Bereiche
beschränkt.
Bei dem hier vorgestellten Verfahren wird Material unter einer
Werkzeugelektrode lokal geätzt oder lokal abgeschieden. Eine feine Elektrode
kann während des Ätzens in die Oberfläche eines Werkstückes eingesenkt und
dabei als Negativ abgeformt werden oder sogar wie ein Miniaturfräser
eingesetzt werden. Auf diese Weise lassen sich dreidimensionale
Mikrostrukturen mit einer Präzision besser als 1 mm und hohem Aspektverhältnis
freilegen. Durch geeignete Werkzeuge können sogar Unterschneidungen und
freistehende Elemente in einem Arbeitsschritt geätzt werden.
Die Mikrostrukturierung mit ultrakurzen Spannungspulsen wird an Kupfer,
Silizium und Edelstahl demonstriert. Die Bearbeitung erfolgt ohne mechanische
oder thermische Belastung, so daß das mikrokristalline Gefüge und die
Materialeigenschaften unverändert bleiben. Zusätzlich zum lokalen Ätzen wird
die lokale Abscheidung von Kupfer unter einer Werkzeugelektrode vorgestellt.
de
dc.description.abstract
Abstract of Thesis
## Abstract
The fabrication of microstructures is one of today's key technologies.
Applications of microdevices range from sensors and electronic devices up to
complete miniaturized machines. In this thesis, a new electrochemical method
is presented, which enables the three-dimensional machining of conducting
materials with sub-micrometer precision. Electrochemical reactions on
electrode surfaces are localized due to the application of ultrashort voltage
pulses of only nanosecond duration.
The method is based on the fact that the charging time constant of the double
layer capacity varies linearly with the separation between the electrodes.
During ultrashort pulses, effective charging is limited to electrode regions
with distances below a few micrometers to the counter electrode. Since
electrochemical reaction rates are exponentially dependent on the potential
drop in the double layer, the reactions are sharply confined to these regions.
Upon application of ultrashort voltage pulses to a tool electrode material can
be locally etched or deposited. A tiny tool electrode can be etched into a
workpiece or used like a miniature milling cutter. Thus, microstructures can
be fabricated with a precision better than 1 mm and with high aspect ratios.
With properly shaped tool electrodes it is possible to machine undercuts and
freestanding elements into the material in one step.
Micromachining with ultrashort voltage pulses is demonstrated for the local
etching of copper, silicon, and stainless steel. The machining proceeds
without inducing mechanical or thermal stress. Therefore, during etching, the
material properties and the microcrystalline composition remain unchanged. In
addition to local etching, the local deposition of copper structures is
possible.
en
dc.rights.uri
http://www.fu-berlin.de/sites/refubium/rechtliches/Nutzungsbedingungen
dc.subject
Micromachining
dc.subject
Microstructuring
dc.subject
Electrochemistry
dc.subject
Voltage Pulses
dc.subject
Stainless Steel
dc.subject.ddc
500 Naturwissenschaften und Mathematik::540 Chemie::540 Chemie und zugeordnete Wissenschaften
dc.title
Elektrochemische Mikrostrukturierung mit ultrakurzen Spannungspulsen
dc.contributor.firstReferee
Prof. Dr. Gerhard Ertl
dc.contributor.furtherReferee
Prof. Dr. Helmut Baumgärtel
dc.date.accepted
2001-12-18
dc.date.embargoEnd
2002-01-16
dc.identifier.urn
urn:nbn:de:kobv:188-2002000073
dc.title.translated
Electrochemical Microstructuring with Ultrashort Voltage Pulses
en
refubium.affiliation
Biologie, Chemie, Pharmazie
de
refubium.mycore.fudocsId
FUDISS_thesis_000000000552
refubium.mycore.transfer
http://www.diss.fu-berlin.de/2002/7/
refubium.mycore.derivateId
FUDISS_derivate_000000000552
dcterms.accessRights.dnb
free
dcterms.accessRights.openaire
open access