dc.contributor.author
Sydow, Jörg
dc.contributor.author
Windeler, Arnold
dc.contributor.author
Möllering, Guido
dc.date.accessioned
2018-06-08T03:22:09Z
dc.date.available
2012-12-20
dc.identifier.uri
https://refubium.fu-berlin.de/handle/fub188/15025
dc.identifier.uri
http://dx.doi.org/10.17169/refubium-19213
dc.rights.uri
http://www.fu-berlin.de/sites/refubium/rechtliches/Nutzungsbedingungen
dc.subject.ddc
700 Künste und Unterhaltung::760 Grafik::763 Lithografische Druckverfahren
dc.subject.ddc
600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften::620 Ingenieurwissenschaften::621 Angewandte Physik
dc.title
Path-Creating Networks in the Field of Next Generation Lithography: Outline of
a Research Project
dcterms.bibliographicCitation
University of Technology, Technology Studies Working Papers ; TUTS-WP-2-2004
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